他的眼睛紧紧盯着测量仪器上的数值变化，目光锐利得不放过任何一个细微得几乎可以忽略的偏差。哪怕是极其微小的波动，都能引起他的高度警觉，然后迅速思考可能的原因和解决方案。 

    接着，他把注意力转向了光刻机的光学系统。他小心翼翼地清洁和校准透镜和反射镜，通过复杂的计算和精确的操作，努力使光线能够以最理想的方式聚焦和传播。在这个过程中，他遇到了光线散射和聚焦不准确的问题，但他没有丝毫气馁，而是反复查阅相关的理论知识，不断尝试新的方法和角度。 

    对于光刻胶的选择和优化，武落平同样投入了巨大的精力。他测试了多种不同成分和特性的光刻胶，观察它们在不同光线条件下的反应，寻找最适合当前光刻机系统的那一款。