第410章 排查智能手机芯片流片失败原因 第(3/3)分页
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叶云州对于梁梦松团队的工作是高度认可的,以星耀半导体目前不计成本的追赶速度,预计再有三年左右就能追平台积电的制程工艺。
如果星耀公司的EUV光刻机能事先取得突破,那么未来五年内星耀公司制霸半导体领域不是问题。
叶云州收回思绪,继续思考到底是哪个环节出现问题。
“贾维斯,你判断一下大概还有哪个环节能出问题?”叶云州跟大脑里的贾维斯交流。
因为贾维斯跟叶云州共享五感,所以它非常了解当前的状况。
“州哥,到现场去看看就知道了,我怀疑是材料问题。”
“呃,可能吗?”